Gara a procedura aperta ai sensi dell’art. 71 del D.Lgs. 36/2023 per la fornitura di un sistema per la rimozione ionica reattiva assistita da plasma accoppiato induttivamente (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching, ICP-RIE)

Genova, Italia | Istituto Italiano di Tecnologia
Julkaistu 2 viikkoa sitten | 30.7.2026 Määräaika: 1 kuukausi kuluttua | 21.9.2026 13:00 Alkuperäinen ilmoitus

Fornitura di un sistema per la rimozione ionica reattiva assistita da plasma accoppiato induttivamente (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching, ICP-RIE)

Ilmoitusnumero 530688-2026
Ilmoitusta kuvaavat CPV-Koodit Tekniset simulaattorit tutkimus-, testaus- ja tieteelliseen käyttöön (38970000)
EUVL S 146/2026
Ilmoitustyyppi Hankintailmoitus (tarjouspyyntö)
Aluekoodi
Osoitetiedot Istituto Italiano di Tecnologia
Genova
tenders@iit.it
https://ted.europa.eu/it/notice/-/detail/530688-2026
Osoite, johon tarjoukset tai osallistumispyynnöt on lähetettävä
Liitteet
Lähde TED