Cameră pentru depunerea de straturi subțiri semiconductoare din nitruri III–V, cu uniformitate foarte bună pe suprafețe de mari dimensiuni, utilizând tehnici de pulverizare în câmp magnetron (Cameră de depunere)

Camera pentru depunerea de straturi subțiri semiconductoare din nitruri III–V, cu uniformitate foarte bună pe suprafețe de mari dimensiuni, utilizând tehnici de pulverizare în câmp magnetron, va fi destinată tranziției de la cercetări de laborator pe substraturi de mici dimensiuni către procesări pe substraturi de mari dimensiuni (diametru de 4 inch), conforme cu standardele activităților de microproducție.