Ätzanlage zum tiefen Silicium-Ätzen für MEMS

Bochum, Saksa | Ruhr-Universität Bochum
Julkaistu 3 viikkoa sitten | 12.8.2026 Määräaika: 2 kuukautta kuluttua | 13.11.2026 05:13 Alkuperäinen ilmoitus

Die Ruhr-Universität Bochum beabsichtigt eine DRIE Ätzanlage zu beschaffen, die im Forschungslabor Mikroelektronik Bochum für Wafer-Substrate bis 200 mm Durchmesser eingesetzt werden soll. Sie soll auf dem Gebiet der Silicium-basierten Mikro-Elektro-Mechanischen Systeme (MEMS) für das tiefe anisotrope Siliciumätzen auf Basis eines zyklischen Ätzprozesses (DRIE, "BOSCH-Prozess") eingesetzt werden und darüber hinaus der Erforschung neuer Ätzkonzepte dienen, die weniger klimaschädliche Ätzgase nutzen.

Ilmoitusnumero 562332-2026
Ilmoitusta kuvaavat CPV-Koodit Laboratoriolaitteet, optiset ja tarkkuuslaitteet (lukuun ottamatta silmälaseja) (38000000)
EUVL S 155/2026
Ilmoitustyyppi Hankintailmoitus (tarjouspyyntö)
Aluekoodi
Osoitetiedot Ruhr-Universität Bochum
Bochum
beschaffung@rub.de
https://ted.europa.eu/de/notice/-/detail/562332-2026
Osoite, johon tarjoukset tai osallistumispyynnöt on lähetettävä
Liitteet
Lähde TED